AI导读：

光刻机(胶)概念周四大涨超4%，受益于半导体设备投资持续增加。国际半导体展在上海开幕，AI成为半导体产业增长重要引擎。机构指出光刻机产业链想象空间巨大，国产化率有待提升。A股一季报预告期，半导体设备和材料公司业绩有望增长。

周四(3月27日)，光刻机(胶)概念大涨超4%，新莱应材20CM涨停，主要受益于半导体设备投资的持续增加。

据新华财经报道，2025年国际半导体展（SEMICON China）3月26日在上海开幕。国际半导体组织SEMI全球副总裁、中国区总裁居龙在开幕式上表示，半导体产业的黄金时代已来临，AI将成为驱动半导体产业增长的重要引擎。在AI需求不断增长的背景下，全球半导体设备投资也将持续增长，预计2025年中国半导体设备投资全球占比将达到31%。

机构观点显示，光刻机产业链想象空间巨大。中信证券指出，光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一，2024年全球市场规模超230亿美元，其中ASML处于绝对领先地位，而2024年国内市场规模超400亿元，但国产化率仅2.5%。国内对光刻机产业链的投资和支持力度持续加大，国产高端光刻机的发展有望获得推动，半导体设备产业链也将有望受益。未来若DUV及EUV设备实现国产化突破，国内先进制程产线有望实现国产替代，迎来新一轮半导体扩产周期。

天风证券认为，A股进入一季报预告期，半导体设备和材料公司业绩有望在新一轮并购重组推动下增长。资本运作实现资源优化配置已成必然趋势，既有利于头部企业打造综合型技术平台，提升国际竞争力，又能通过上下游协同发展完善本土产业链配套，推动国产设备在多工艺环节实现替代突破。

（文章来源：东方财富研究中心）