光刻胶概念领涨市场,半导体行业备受瞩目
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截至3月27日收盘,光刻胶概念上涨4.67%,位居涨幅榜首。光刻胶概念板块获主力资金净流入19.54亿元,西陇科学、新莱应材等股资金净流入超2亿元。光刻胶作为半导体制造的关键材料,市场需求和未来发展前景备受关注。
截至3月27日收盘,光刻胶概念上涨4.67%,位居概念板块涨幅榜首,板块内61股上涨。其中,华融化学、新莱应材等20%涨停,国风新材、红宝丽、凯美特气等涨停。佳先股份、芯碁微装、飞凯材料等涨幅居前,分别上涨14.45%、12.29%、10.32%。跌幅居前的有岱勒新材、普利特、奥来德等,分别下跌2.45%、2.06%、0.74%。
今日光刻胶概念板块成为市场焦点,涨幅远超其他概念板块,如光刻机上涨4.21%,海工装备则下跌3.25%。资金面上,光刻胶概念板块获主力资金净流入19.54亿元,47股获主力资金净流入,其中西陇科学、新莱应材、红宝丽、江化微等资金净流入超2亿元。
资金流入比率方面,凯美特气、江化微、西陇科学等流入比率居前,主力资金净流入率分别为40.95%、38.40%、30.58%,显示出市场对光刻胶概念的强烈追捧。(数据宝)
光刻胶作为半导体制造的关键材料,其市场需求和未来发展前景备受关注。此次光刻胶概念的强势上涨,也进一步凸显了市场对半导体行业的看好。
(文章来源:证券时报网)
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