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受纳微半导体与英伟达合作消息影响，AI数据中心电源概念周四市场表现活跃。纳微半导体宣布与英伟达合作开发800伏高压直流架构，引发市场关注。光大证券研报指出，随着AI迅猛发展和算力需求增加，HVDC在AI数据中心的优势将凸显，渗透率有望持续提升。

受纳微半导体与英伟达合作消息影响，AI数据中心(AIDC)电源概念周四市场表现活跃，中恒电气涨停，通合科技涨幅超过6%。

据财联社报道，当地时间5月21日，纳微半导体宣布与英伟达携手开发下一代800伏高压直流（HVDC）架构。消息公布后，纳微半导体美股盘后大涨超过180%。

在数据中心电源领域，英伟达的另一重要合作伙伴维谛技术也传来新动向。5月20日，维谛技术宣布计划在2026年下半年推出800VDC电源产品系列，以支持英伟达的整机柜计算平台。

业内观点认为，这一动向标志着数据中心基础设施领域迎来重大技术革新，特别是在满足吉瓦级AI计算负载需求方面。

当前数据中心普遍采用传统的54V机架内配电系统，但当功率增加到200kW以上时，这一系统因功率密度、铜材需求增加及系统效率下降等问题而面临物理极限。

而现代AI数据中心则需要吉瓦(GW)级的电力来支撑不断增长的AI计算需求。英伟达提出的解决方案是在数据中心外围直接将13.8kV交流电网电力转换为800V高压直流，利用固态变压器(SST)和工业级整流器，减少交流/直流和直流/直流转换步骤，从而大幅提升效率和可靠性。

光大证券日前发布的研报指出，市场对于AI数据中心供电方案的发展趋势一直存在分歧，但维谛技术宣布计划推出800VDC电源产品系列以匹配英伟达的技术路线，进一步验证了HVDC产业的发展趋势。随着未来机架功率的提升，HVDC在AI数据中心的优势将更加显著，其渗透率有望持续提升。

HVDC有望逐步替代UPS，原因主要有以下几点：

1. AI技术的发展推动服务器机架功率持续提升，当机架功率超过300kW时，HVDC技术通过减少铜材使用量、降低电流及减少热损耗，实现更高效、集中化的电力输送；

2. HVDC相较于交流UPS省去了逆变环节，有利于降低电能损耗并提高可靠性；

3. HVDC系统在占地面积、建设成本及运营成本上均优于UPS。

光大证券认为，随着AI的迅猛发展和算力需求的急剧增加，AI数据中心供配电系统面临效率和节地等指标进一步提升的迫切需求。这些因素将持续推动数据中心供电技术方案由UPS向HVDC发展，未来HVDC在AI数据中心的渗透率有望持续提升。

（文章来源：东方财富研究中心）